近日Arthur觀察到，實?驗?室?搬?遷?北方華創(chuàng)(Naura)官方宣布，學(xué)校（光刻機(jī)）（曝光機(jī)）（蝕刻機(jī)）裝卸搬運（移入移出運輸）ICP等離子刻蝕機(jī)第***0腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行，NAURA刻蝕機(jī)研發(fā)團(tuán)隊見證了這一歷史性時刻。這不僅是公司發(fā)展征程中的重要里程碑，更是國產(chǎn)刻蝕機(jī)在歷經(jīng)了20年自主創(chuàng)新后得到客戶廣泛認(rèn)可的重要標(biāo)志，未來會持續(xù)在等離子刻蝕ICP技術(shù)領(lǐng)域?qū)で蟾嗤黄啤?/span>北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司成立于2001年，由北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司、北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司戰(zhàn)略重組而成，是目前國內(nèi)集成電路工藝裝備的企業(yè)。實?驗?室?搬?遷?

北方華創(chuàng)成立后就開始組建團(tuán)隊鉆研刻蝕技術(shù)，2004年設(shè)備成功起輝，2005年8英寸ICP刻蝕機(jī)在客戶端上線，并于2007年獲得***科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎。 ??半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運?

目前，北方華創(chuàng)的刻蝕設(shè)備已經(jīng)覆蓋集成電路、LED、封裝、功率半導(dǎo)體、MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、硅基微顯、分析儀器、功率器件、光通信器件等多個領(lǐng)域，硅刻蝕機(jī)已突破14nm技術(shù)，進(jìn)入主流芯片代工廠。其中，12英寸ICP刻蝕機(jī)在實現(xiàn)客戶端28nm國產(chǎn)化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、存儲器、3D TSV等工藝應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。 ??半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運?

——刻蝕：芯片制造中的關(guān)鍵工藝之一

刻蝕可以分為濕法刻蝕和干法刻蝕，濕法刻蝕各向異性較差， ??半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運?而干法刻蝕是目前主流的刻蝕技術(shù)，其中以等離子體干法刻蝕為主導(dǎo)。所謂等離子體干法刻蝕，就是利用等離子體進(jìn)行薄膜微細(xì)加工的技術(shù)，具有良好的各向異性、工藝可控性，廣泛應(yīng)用于微電子產(chǎn)品制造領(lǐng)域。在典型的干法刻蝕工藝過程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應(yīng)腔室中，在外部能量作用下（如射頻、微波等）形成等離子體。等離子體刻蝕設(shè)備包括電容性等離子體刻蝕設(shè)備（CCP, Capacitively Coupled Plasma）和電感性等離子體刻蝕設(shè)備 ??半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運?（ICP, Inductively Coupled Plasma）。CCP刻蝕設(shè)備主要應(yīng)用于刻蝕氧化物、氮化物等硬度高、需要高能量離子反應(yīng)刻蝕的介質(zhì)材料，ICP刻蝕設(shè)備主要應(yīng)用于刻蝕單晶硅、多晶硅等材料。刻蝕作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵工藝之一，根據(jù)SEMI統(tǒng)計，刻蝕設(shè)備約占晶圓制造設(shè)備價值量的24%左右。刻蝕設(shè)備市場的行業(yè)集中度較高，目前，半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備的主要供應(yīng)商為泛林半導(dǎo)體實?驗?室?搬?遷?（Lam Research）、東京電子（TEL）、應(yīng)用材料（AMAT）三家，而Lam Research占據(jù)刻蝕設(shè)備市場的半壁江山。根據(jù)Gartner數(shù)據(jù)顯示，2019年刻蝕設(shè)備市場約為115億美元，其中Lam Research獨占52%的市場份額，TEL和AMAT分別占據(jù)20%和19%的市場份額。 ??半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運?

近年來，隨著國內(nèi)芯片制造行業(yè)的興起，中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備需求市場快速增加。由于美國對中國半導(dǎo)體企業(yè)的進(jìn)一步封鎖，國內(nèi)企業(yè)如中芯、實?驗?室?搬?遷?長江存儲等在今年加大了對半導(dǎo)體設(shè)備（尤其是海外廠商）的采購，亞化咨詢預(yù)計，2020年中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備市場將突破160億美元，刻蝕設(shè)備市場將達(dá)到25億美元。 ??半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運?